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硅片清洗废水处理案例|硅片清洗废水处理方法

该厂为89英寸晶圆生孩子线一体化的超注射用水操作系统,整天会产生含硅焦化废水150吨。焦化废水面虽无天价属,但硅分子量高易积垢,且热敏电阻率需做到18MΩ·cm性能使用。多余清工院艺就没有办法满足了新修订的《手机产业水污染源物直接排放出规范》(GB39731-2020)越来越直接排放出允许值。 焦化废水基本成分特质 主要污染问题物 :溶液硅(200-300mg/L)、粒子硅(颗粒直径0.1-1μm) 特别的的标准 :TOC<10μg/L,硼硫含量<5μg/L 水质量性质 :低纯水电导率(<50μS/cm)但硅类化合物底部形态繁多 处理工艺技术流程步骤 革新进行"梯级膜脱离+电去阴离子"組合工艺设计: 微滤预操作 :1μm淘瓷膜拦住大顆粒硅,通量达到80LMH 化合物互转环氧树脂 :D201大孔聚酯树脂选定 性物理吸附硅酸团伙 特殊RO平台 :首位段收购率60%,第二个段所采用高脱硼膜零件 EDI电去阴阳离子 :工作电流导热系数2A/m²,一直清掉残余物正离子 红外光谱臭氧消毒 :254nm红外光谱线药量40mJ/cm² 技巧特点 開發专业级阻硅剂(生物碳胺类挽回物),廷迟膜危害定期3倍 EDI模组多元化流道设定,硅弄掉率提升自己至99.8% 在线平台硅分析一下仪(自动测量範圍0.1-500μg/L)实现了精淮操纵 程序运行作用 经3.方监测: 总硅从280mg/L减少为0.05mg/L 硼水平从8μg/L高于0.3μg/L 系统的收废率从原40%不断提升至68% 膜换周期性延缓至5年,年执行直接费用有效降低35%

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