某半导体芯片制作业企业因晶圆进行维护清洁加工过程引起含氨工业废水，出水量200吨/天。工业废自来水中除氯离子外还内含氟化物和氢化物发生器高价属，治理等级大。是时间进行排放细则符合要求氯离子＜5mg/L，氟化物＜3mg/L。 废渣成分表及主要来源 晶圆擦洗废污水（包括源头）：含挥发酚200-300mg/L，氟化物50-80mg/L 刻蚀制作工艺生产废水：含少量铜、镍等天价属，pH值变化大 CMP磨细废水处理：含硅科粒及氟化物 鑫霖环保技术流程图 通过"耐腐蚀悠长岁月中+膜分割+折点氯化"组合名字艺： 预操作 ：污泥脱水CaCl2除氟，调控pH在7.5-8. 反渗透膜软件 ：清理0.01μm这些可吸入颗粒物 反进行渗透沉淀 ：将氟化物沉淀至1000mg/L综上所述 折点氯化 ：精度调整氯污泥脱水量，将氧化还原电位转变为惰性气体 正离子互相交换 ：得到保障高价属未达标 结果功效 氧化还原电位安全稳定＜3mg/L，氟化物＜1mg/L 巨资属分量高于探测限 水回收率达75% 污水产生量减低40%